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第386章 超级快充浸润式光刻模组（第3页）

duv浸润式光刻机，大致可以分成六个模组。

掩膜版传送模组、晶圆传送模组、照明模组、投影物镜模组、浸润式光刻模组、双晶圆平台模组。

这六个模组当中，难度最大的就是浸润式光刻模组。

这个模组，也是浸润式光刻机名字的由来。

聊到浸润式光刻模组，那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。

简单概括一下，光刻机的原理就是利用紫外光，在晶圆上进行雕刻。

投影物镜的作用，就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内，并聚焦成像在晶圆上。

一般来说，由瑞利公式可以得出结论。

投影物镜是越粗，最后制造出来的芯片性能就会更高。

但是投影物镜要是太粗，又会发生全反射现象，紫外光就无法在晶圆上聚焦了。

换而言之，物镜不够粗，芯片性能就不行。

物镜太粗，直接造不出来了。

这个时候，有人提出了一个天才般的想法。

在晶圆上滴一滴水。

水折射率更高，更不容易发生全反射现象。

这样一来物镜就能做的更粗，造出的芯片就更强。

这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。

将晶圆用水浸润了嘛。

但这又面临了一个巨大的问题。

晶圆成像时温度会升高，需要流动的水来进行降温。

但在成像过程中，又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑，不能有扰动。

出现扰动会怎么样？

晶圆会报废。

所以这“水”，其实不是一般的水。

这个难题，一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。

腾达研发中心虽有进度，但是进度很慢。

当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时，也有提到这个问题衍生出来的子问题。

可是现在，系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。

陈腾将原来超级快充技术详解的u盘拔出，把浸润式光刻模组技术详解的u盘插入。

打开里面的内容一看。

很好，陈腾基本上全都看不懂。

不过陈腾却忍不住笑出了声来。

这次啊，真的是赚大了！

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